模电·结型场效应管_015
场效应管(FET)是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件,并以此命名。由于它仅靠半导体中的多数载流子导电,又称单极型晶体管。场效应管不但具备双极型晶体管体积小、重量轻、寿命长等优点,而且输入回路的内阻高达1071012Ω,噪音低、热稳定性好、抗辐射能力强,且比后者更省电,这些优点使之从20世纪60年代诞生起就广泛应用于各种电子电路之中。
场效应管(FET)是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件,并以此命名。由于它仅靠半导体中的多数载流子导电,又称单极型晶体管。场效应管不但具备双极型晶体管体积小、重量轻、寿命长等优点,而且输入回路的内阻高达
1
0
7
{10^7}
107~
1
0
12
{10^{12}}
1012Ω,噪音低、热稳定性好、抗辐射能力强,且比后者更省电,这些优点使之从20世纪60年代诞生起就广泛应用于各种电子电路之中。
结型场效应管又有N沟道和P沟道两种类型
下图是N沟道的实际结构图。
下图是N沟道和P沟道管的符号。
下图为N沟道结型场效应管的结构示意图。
图中,在同一块N型半导体上制作两个高掺杂的P区,并将它们连接在一起,所引出的电机称为栅极g,N型半导体的两端分别引出两个电极,一个称为漏极d,一个称为源极s。P区与N区交界面形成耗尽层,漏极与源极间的非耗尽层区域称为导电沟道。
结型场效应管的工作原理
为使N沟道结型场效应管能正常工作,应在其栅-源之间加负向电压(即
u
G
S
<
0
{\large u}{\tiny GS}<0
uGS<0),以保证耗尽层承受反向电压;在漏-源之间加正向电压
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS,以形成漏极电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD。
u
G
S
<
0
{\large u}{\tiny GS}<0
uGS<0,既保证了栅-源之间内阻很高的特点,又实现了
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS对沟道电流的控制。
下面通过栅-源电压
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS和漏-源电压
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS对导电沟道的影响,来说明管子的工作原理。
1.当
u
D
S
=
0
V
{\large u}{\tiny DS}=0V
uDS=0V(即d、s)短路时,
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS对导电沟道的控制作用
当
u
D
S
=
0
V
{\large u}{\tiny DS}=0V
uDS=0V且
u
G
S
=
0
V
{\large u}{\tiny GS}=0V
uGS=0V时,耗尽层很窄,导电沟道很宽,如下图所示。
当
∣
u
G
S
∣
|{\large u}{\tiny GS}|
∣uGS∣增大时,耗尽层加宽,沟道变窄,如下图所示。
沟道电阻增大。当
∣
u
G
S
∣
|{\large u}{\tiny GS}|
∣uGS∣增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消失如下图所示。
沟道电阻区域无穷大,称此时 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS的值为夹断电压 u G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GS(off)} uGS(off)。
2.当
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS为
U
G
S
(
o
f
f
)
{U}{\tiny GS(off)}
UGS(off) ~ 0V中某一固定值时,
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS对漏极电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD的影响
当
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS为
U
G
S
{U}{\tiny GS}
UGS ~0V中某一确定值时,若
u
D
S
=
0
V
{\large u}{\tiny DS}=0V
uDS=0V,则虽然存在由
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS所确定的一定宽度的导电沟道,但由于d - s间电压为零,多子不会产生定向移动,因而漏极电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD为零。
若
u
D
S
>
0
V
{\large u}{\tiny DS}>0V
uDS>0V,则有电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD从漏极流向源极,从而使沟道中各点与栅极间的电压不再相等,而是沿沟道从源极到漏极逐渐增大,造成靠近栅极一边的耗尽层比靠近源极一边的宽。换言之,靠近漏极一边的导电沟道比靠近源极一边的窄,如下图所示。
因为栅-漏电压
u
G
D
=
u
G
S
−
u
D
S
{\large u}{\tiny GD}={\large u}{\tiny GS}-{\large u}{\tiny DS}
uGD=uGS−uDS,所以当
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS从零逐渐增大时
u
G
D
{\large u}{\tiny GD}
uGD逐渐减小,靠近漏极一边的导电沟道必将随之变窄。但是,只要栅-漏间不出现夹断区域,沟道电阻仍将基本上决定于栅-源电压
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS,因此,电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD降随
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS的增大而线性增大,d-s呈现电阻特性。而一旦
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS的增大时
u
G
D
{\large u}{\tiny GD}
uGD等于
U
G
S
(
o
f
f
)
{U}{\tiny GS(off)}
UGS(off),则漏极一边的耗尽层就会出夹断区,见下图所示,称
u
G
D
=
U
G
S
{\large u}{\tiny GD}={U}{\tiny GS}
uGD=UGS预夹断。
若
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS继续增大,则
u
G
D
<
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)}
uGD<UGS(off),耗尽层闭合部分将沿沟道方向延伸,即夹断区加长,见下图所示。
这时,一方面自由电子从漏极向源极定向移动所受阻力加大(只能从夹断区的窄缝以较高速度通过),从而导致
i
D
{i}{\tiny D}
iD减小;另一方面,随着
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS的增大,使d - s间的纵向电场增强,也必然导致
i
D
{i}{\tiny D}
iD增大。实际上,上述
i
D
{i}{\tiny D}
iD的两种变化趋势相抵消,
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS的增大几乎全部降落在夹断区,用于克服夹断区对
i
D
{i}{\tiny D}
iD形成的阻力。因此,从外部看,在
u
G
D
<
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)}
uGD<UGS(off)的情况下,当
u
G
D
{\large u}{\tiny GD}
uGD增大时
i
D
{i}{\tiny D}
iD几乎不变,即
i
D
{i}{\tiny D}
iD几乎仅仅决定于
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS,表现出
i
D
{i}{\tiny D}
iD的恒流特性。
3.当
u
G
D
<
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)}
uGD<UGS(off)时,
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS对
i
D
{i}{\tiny D}
iD的控制作用
在
u
G
D
=
u
G
S
−
u
D
S
<
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}={\large u}{\tiny GS}-{\large u}{\tiny DS}<{U}{\tiny GS(off)}
uGD=uGS−uDS<UGS(off),即
u
D
S
>
=
u
G
S
−
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny DS}>={\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)}
uDS>=uGS−UGS(off)的情况下,当
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS为一常量时,对应于确定的
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS,就有确定的
i
D
{i}{\tiny D}
iD。此时,可以通过改变
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS来控制
i
D
{i}{\tiny D}
iD的大小。由于漏极电流受栅-源电压的控制,故称场效应管为电压控制元件。与晶体管用
β
(
=
Δ
i
C
Δ
i
B
)
{\beta}(=\frac{\Delta i\tiny C}{\Delta {i\tiny B}})
β(=ΔiBΔiC)来描述动态情况下基极电流对集电极电流的控制作用相类似,场效应管用
g
m
g\tiny m
gm来描述动态栅-源电压对漏极电流的控制作用,
g
m
g\tiny m
gm称为低频跨导
g
m
=
Δ
i
D
Δ
u
G
S
{g\tiny m}=\frac{\Delta i\tiny D}{\Delta {\large u}{\tiny GS}}
gm=ΔuGSΔiD
由以上分析可知:
(1)在
u
G
D
=
u
G
S
−
u
D
S
>
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}={\large u}{\tiny GS}-{\large u}{\tiny DS}>{U}{\tiny GS(off)}
uGD=uGS−uDS>UGS(off)的情况下,即当
u
D
S
<
u
G
S
−
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny DS}<{\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)}
uDS<uGS−UGS(off)(即g - d间未出现夹断)时,对于不同的
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS,d - s间等效成不同阻值的电阻。
当
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS使
u
G
D
=
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}={U}{\tiny GS(off)}
uGD=UGS(off)时,d - s之间预夹断。
当
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS使
u
G
D
<
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)}
uGD<UGS(off)时,
i
D
{i}{\tiny D}
iD几乎仅仅决定于
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS,而与
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS无关。此时可以把
i
D
{i}{\tiny D}
iD近似看成
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS控制的电流源。
结型场效应管的特性曲线
输出特性曲线
输出特性曲线描述当栅-源电压
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS为常量时,漏极电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD与漏-源电压
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS之间的函数关系,即
i
D
=
f
(
u
D
S
)
∣
U
G
S
=
常数
{i}{\tiny D}=f({\large u}{\tiny DS}){\huge{\mid_ {{\small U}{\tiny GS}{ \small =常数}}}}
iD=f(uDS)∣UGS=常数
对应于一个
U
G
S
{U}{\tiny GS}
UGS,就有一条曲线,因此输出特性为一族曲线,如下图所示,场效应管有三个工作区域:可变电阻区(也称非饱和区)、恒流区(也称饱和区)、夹断区。
可变电阻区(也称非饱和区)
上图中的虚线为预夹断轨迹,它是各条曲线上使 u D S = u G S − U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny DS}={\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)} uDS=uGS−UGS(off)(即 u G D = U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}={U}{\tiny GS(off)} uGD=UGS(off))的点连接而成的。 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS越大,预夹断时的 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS值也越大。预夹断轨道的左边区域称为可变电阻区,该区域中曲线近似为不同斜率的直线。当 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS确定时,直线的斜率也唯一地被确定,直线斜率的倒数为d - s间等效电阻。因而在此区域中,可以通过改变 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS的大小(即压控的方式)来改变漏-源等效电阻的阻值,故称之为可变电阻区。
恒流区(也称饱和区)
上图中预夹断轨迹的右边区域为恒流区。当 u D S > u G S − U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny DS}>{\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)} uDS>uGS−UGS(off)(即 u G D < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)} uGD<UGS(off))时,各曲线近似为一族横轴的平行线。当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS增大时, i D {i}{\tiny D} iD仅略有增大。因而可将 i D {i}{\tiny D} iD近似为电压 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS控制的电流源,故称该区域为恒流区。利用场效应管作放大管时,应使其工作在该区域。
夹断区
当
u
G
S
<
U
G
S
(
o
f
f
)
{\large u}{\tiny GS}<{U}{\tiny GS(off)}
uGS<UGS(off)时,导电沟道被夹断,
i
D
{i}{\tiny D}
iD≈0,即上图中靠近横轴的部分,称为夹断区,一般将使
i
D
{i}{\tiny D}
iD等于某一个很小的电流(如5uA)时的
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS定义为夹断电压
U
G
S
(
o
f
f
)
{U}{\tiny GS(off)}
UGS(off)。
另外,当
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS增大到一定程度时,漏极电流会骤然增大,管子将被击穿。由于这种击穿是因栅-漏间耗尽层破坏而造成的,因而若栅-源击穿电压为
U
B
R
(
G
D
)
{U}{\tiny BR(GD)}
UBR(GD),则漏-源击穿电压为
U
B
R
(
D
S
)
=
u
G
S
−
U
B
R
(
G
D
)
{U}{\tiny BR(DS)}={\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny BR(GD)}
UBR(DS)=uGS−UBR(GD),所以当
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS增大时,漏-源击穿电压将增大,如上图所示。
可转移特性
转移特性曲线描述当漏-源电压
u
D
S
{\large u}{\tiny DS}
uDS为常量时,漏极电流
i
D
{i}{\tiny D}
iD与栅-源电压
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS之间的函数关系,即
i
D
=
f
(
u
G
S
)
∣
U
D
S
=
常数
{i}{\tiny D}=f({\large u}{\tiny GS}){\huge{\mid_ {{\small U}{\tiny DS}{ \small =常数}}}}
iD=f(uGS)∣UDS=常数
当场效应管工作在恒流区时,由于输出特性曲线可近似为横轴的一组平行线,所以可以用一条转移特性曲线代替恒流区的所有曲线,在输出特性曲线的恒流区中做横轴的垂线,读出垂线与各曲线交点的坐标值,建立
u
G
S
{\large u}{\tiny GS}
uGS、
i
D
{i}{\tiny D}
iD坐标系,连接各点所得曲线就是转移特性曲线,见下图所示。可见转移特性曲线有严格的对应关系。
根据半导体物理中对场效应管内部载流子的分析可以得到恒流区中
i
D
{i}{\tiny D}
iD的近似表达式为
i
D
=
I
D
S
S
(
1
−
u
G
S
U
G
S
(
o
f
f
)
)
2
(
U
G
S
(
o
f
f
)
<
u
G
S
<
0
)
{i}{\tiny D}={I\tiny DSS}{(1-\frac {{\large u}{\tiny GS}}{U\tiny GS(off)})}^2({U\tiny GS(off)}<{{\large u}\tiny GS}<0)
iD=IDSS(1−UGS(off)uGS)2(UGS(off)<uGS<0)
式中
I
D
S
S
{I\tiny DSS}
IDSS是
u
G
S
=
0
{{\large u}\tiny GS}=0
uGS=0情况下产生预夹断时的
I
D
{I}{\tiny D}
ID,称为饱和漏极电流。
当管子工作在可变电阻区时,对于不同的
U
D
S
{U}{\tiny DS}
UDS,转移特性曲线将有很大差别。
应当指出,为保证结型场效应管栅-源间的耗尽层加反向电压,对于N沟道管,
u
G
S
≤
0
V
{{\large u}\tiny GS}≤0V
uGS≤0V;对于P沟道管,
u
G
S
≥
0
V
{{\large u}\tiny GS}≥0V
uGS≥0V。
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