场效应管(FET)是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件,并以此命名。由于它仅靠半导体中的多数载流子导电,又称单极型晶体管。场效应管不但具备双极型晶体管体积小、重量轻、寿命长等优点,而且输入回路的内阻高达 1 0 7 {10^7} 107~ 1 0 12 {10^{12}} 1012Ω,噪音低、热稳定性好、抗辐射能力强,且比后者更省电,这些优点使之从20世纪60年代诞生起就广泛应用于各种电子电路之中。
  结型场效应管又有N沟道和P沟道两种类型
  下图是N沟道的实际结构图。
N沟道管的结构

  下图是N沟道和P沟道管的符号。
结场型效应管的结构和符号

  下图为N沟道结型场效应管的结构示意图。
N沟道结型场效应管的结构示意图
  图中,在同一块N型半导体上制作两个高掺杂的P区,并将它们连接在一起,所引出的电机称为栅极g,N型半导体的两端分别引出两个电极,一个称为漏极d,一个称为源极s。P区与N区交界面形成耗尽层,漏极与源极间的非耗尽层区域称为导电沟道。

结型场效应管的工作原理

  为使N沟道结型场效应管能正常工作,应在其栅-源之间加负向电压(即 u G S < 0 {\large u}{\tiny GS}<0 uGS0),以保证耗尽层承受反向电压;在漏-源之间加正向电压 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS,以形成漏极电流 i D {i}{\tiny D} iD u G S < 0 {\large u}{\tiny GS}<0 uGS0,既保证了栅-源之间内阻很高的特点,又实现了 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS对沟道电流的控制。
  下面通过栅-源电压 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS和漏-源电压 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS对导电沟道的影响,来说明管子的工作原理。
  1.当 u D S = 0 V {\large u}{\tiny DS}=0V uDS=0V(即d、s)短路时, u G S {\large u}{\tiny GS} uGS对导电沟道的控制作用
  当 u D S = 0 V {\large u}{\tiny DS}=0V uDS=0V u G S = 0 V {\large u}{\tiny GS}=0V uGS=0V时,耗尽层很窄,导电沟道很宽,如下图所示。
uDS=0V且uGS=0V时对导电沟道的控制作用
  当 ∣ u G S ∣ |{\large u}{\tiny GS}| uGS增大时,耗尽层加宽,沟道变窄,如下图所示。
uDS=0V且UGS(off)<uGS<0V时对导电沟道的控制作用
  沟道电阻增大。当 ∣ u G S ∣ |{\large u}{\tiny GS}| uGS增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消失如下图所示。
uDS=0V且uGS≤UGS(off)时对导电沟道的控制作用

  沟道电阻区域无穷大,称此时 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS的值为夹断电压 u G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GS(off)} uGS(off)

  2.当 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS U G S ( o f f ) {U}{\tiny GS(off)} UGS(off) ~ 0V中某一固定值时, u D S {\large u}{\tiny DS} uDS对漏极电流 i D {i}{\tiny D} iD的影响
  当 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS U G S {U}{\tiny GS} UGS ~0V中某一确定值时,若 u D S = 0 V {\large u}{\tiny DS}=0V uDS=0V,则虽然存在由 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS所确定的一定宽度的导电沟道,但由于d - s间电压为零,多子不会产生定向移动,因而漏极电流 i D {i}{\tiny D} iD为零。
  若 u D S > 0 V {\large u}{\tiny DS}>0V uDS0V,则有电流 i D {i}{\tiny D} iD从漏极流向源极,从而使沟道中各点与栅极间的电压不再相等,而是沿沟道从源极到漏极逐渐增大,造成靠近栅极一边的耗尽层比靠近源极一边的宽。换言之,靠近漏极一边的导电沟道比靠近源极一边的窄,如下图所示。
UGS(off)<uGS<0且uDS>0的情况,uGD>UGS(off)

  因为栅-漏电压 u G D = u G S − u D S {\large u}{\tiny GD}={\large u}{\tiny GS}-{\large u}{\tiny DS} uGD=uGSuDS,所以当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS从零逐渐增大时 u G D {\large u}{\tiny GD} uGD逐渐减小,靠近漏极一边的导电沟道必将随之变窄。但是,只要栅-漏间不出现夹断区域,沟道电阻仍将基本上决定于栅-源电压 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS,因此,电流 i D {i}{\tiny D} iD降随 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS的增大而线性增大,d-s呈现电阻特性。而一旦 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS的增大时 u G D {\large u}{\tiny GD} uGD等于 U G S ( o f f ) {U}{\tiny GS(off)} UGS(off),则漏极一边的耗尽层就会出夹断区,见下图所示,称 u G D = U G S {\large u}{\tiny GD}={U}{\tiny GS} uGD=UGS预夹断。
UGS(off)<uGS<0且uDS>0的情况,uGD=UGS(off)

  若 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS继续增大,则 u G D < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)} uGDUGS(off),耗尽层闭合部分将沿沟道方向延伸,即夹断区加长,见下图所示。
UGS(off)<uGS<0且uDS>0的情况,uGD<UGS(off)

  这时,一方面自由电子从漏极向源极定向移动所受阻力加大(只能从夹断区的窄缝以较高速度通过),从而导致 i D {i}{\tiny D} iD减小;另一方面,随着 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS的增大,使d - s间的纵向电场增强,也必然导致 i D {i}{\tiny D} iD增大。实际上,上述 i D {i}{\tiny D} iD的两种变化趋势相抵消, u D S {\large u}{\tiny DS} uDS的增大几乎全部降落在夹断区,用于克服夹断区对 i D {i}{\tiny D} iD形成的阻力。因此,从外部看,在 u G D < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)} uGDUGS(off)的情况下,当 u G D {\large u}{\tiny GD} uGD增大时 i D {i}{\tiny D} iD几乎不变,即 i D {i}{\tiny D} iD几乎仅仅决定于 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS,表现出 i D {i}{\tiny D} iD的恒流特性。
  3.当 u G D < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)} uGDUGS(off)时, u G S {\large u}{\tiny GS} uGS i D {i}{\tiny D} iD的控制作用
  在 u G D = u G S − u D S < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}={\large u}{\tiny GS}-{\large u}{\tiny DS}<{U}{\tiny GS(off)} uGD=uGSuDSUGS(off),即 u D S > = u G S − U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny DS}>={\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)} uDS=uGSUGS(off)的情况下,当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS为一常量时,对应于确定的 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS,就有确定的 i D {i}{\tiny D} iD。此时,可以通过改变 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS来控制 i D {i}{\tiny D} iD的大小。由于漏极电流受栅-源电压的控制,故称场效应管为电压控制元件。与晶体管用 β ( = Δ i C Δ i B ) {\beta}(=\frac{\Delta i\tiny C}{\Delta {i\tiny B}}) β(=ΔiBΔiC)来描述动态情况下基极电流对集电极电流的控制作用相类似,场效应管用 g m g\tiny m gm来描述动态栅-源电压对漏极电流的控制作用, g m g\tiny m gm称为低频跨导
g m = Δ i D Δ u G S {g\tiny m}=\frac{\Delta i\tiny D}{\Delta {\large u}{\tiny GS}} gm=ΔuGSΔiD
  由以上分析可知:
  (1)在 u G D = u G S − u D S > U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}={\large u}{\tiny GS}-{\large u}{\tiny DS}>{U}{\tiny GS(off)} uGD=uGSuDSUGS(off)的情况下,即当 u D S < u G S − U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny DS}<{\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)} uDSuGSUGS(off)(即g - d间未出现夹断)时,对于不同的 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS,d - s间等效成不同阻值的电阻。
  当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS使 u G D = U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}={U}{\tiny GS(off)} uGD=UGS(off)时,d - s之间预夹断。
  当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS使 u G D < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)} uGDUGS(off)时, i D {i}{\tiny D} iD几乎仅仅决定于 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS,而与 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS无关。此时可以把 i D {i}{\tiny D} iD近似看成 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS控制的电流源。

结型场效应管的特性曲线

输出特性曲线

  输出特性曲线描述当栅-源电压 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS为常量时,漏极电流 i D {i}{\tiny D} iD与漏-源电压 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS之间的函数关系,即
i D = f ( u D S ) ∣ U G S = 常数 {i}{\tiny D}=f({\large u}{\tiny DS}){\huge{\mid_ {{\small U}{\tiny GS}{ \small =常数}}}} iD=f(uDS)UGS=常数
  对应于一个 U G S {U}{\tiny GS} UGS,就有一条曲线,因此输出特性为一族曲线,如下图所示,场效应管有三个工作区域:可变电阻区(也称非饱和区)、恒流区(也称饱和区)、夹断区。
场效应管的输出特性

可变电阻区(也称非饱和区)

  上图中的虚线为预夹断轨迹,它是各条曲线上使 u D S = u G S − U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny DS}={\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)} uDS=uGSUGS(off)(即 u G D = U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}={U}{\tiny GS(off)} uGD=UGS(off))的点连接而成的。 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS越大,预夹断时的 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS值也越大。预夹断轨道的左边区域称为可变电阻区,该区域中曲线近似为不同斜率的直线。当 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS确定时,直线的斜率也唯一地被确定,直线斜率的倒数为d - s间等效电阻。因而在此区域中,可以通过改变 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS的大小(即压控的方式)来改变漏-源等效电阻的阻值,故称之为可变电阻区。

恒流区(也称饱和区)

  上图中预夹断轨迹的右边区域为恒流区。当 u D S > u G S − U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny DS}>{\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny GS(off)} uDSuGSUGS(off)(即 u G D < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GD}<{U}{\tiny GS(off)} uGDUGS(off))时,各曲线近似为一族横轴的平行线。当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS增大时, i D {i}{\tiny D} iD仅略有增大。因而可将 i D {i}{\tiny D} iD近似为电压 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS控制的电流源,故称该区域为恒流区。利用场效应管作放大管时,应使其工作在该区域。

夹断区

  当 u G S < U G S ( o f f ) {\large u}{\tiny GS}<{U}{\tiny GS(off)} uGSUGS(off)时,导电沟道被夹断, i D {i}{\tiny D} iD≈0,即上图中靠近横轴的部分,称为夹断区,一般将使 i D {i}{\tiny D} iD等于某一个很小的电流(如5uA)时的 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS定义为夹断电压 U G S ( o f f ) {U}{\tiny GS(off)} UGS(off)
  另外,当 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS增大到一定程度时,漏极电流会骤然增大,管子将被击穿。由于这种击穿是因栅-漏间耗尽层破坏而造成的,因而若栅-源击穿电压为 U B R ( G D ) {U}{\tiny BR(GD)} UBR(GD),则漏-源击穿电压为 U B R ( D S ) = u G S − U B R ( G D ) {U}{\tiny BR(DS)}={\large u}{\tiny GS}-{U}{\tiny BR(GD)} UBR(DS)=uGSUBR(GD),所以当 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS增大时,漏-源击穿电压将增大,如上图所示。

可转移特性

  转移特性曲线描述当漏-源电压 u D S {\large u}{\tiny DS} uDS为常量时,漏极电流 i D {i}{\tiny D} iD与栅-源电压 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS之间的函数关系,即
i D = f ( u G S ) ∣ U D S = 常数 {i}{\tiny D}=f({\large u}{\tiny GS}){\huge{\mid_ {{\small U}{\tiny DS}{ \small =常数}}}} iD=f(uGS)UDS=常数
  当场效应管工作在恒流区时,由于输出特性曲线可近似为横轴的一组平行线,所以可以用一条转移特性曲线代替恒流区的所有曲线,在输出特性曲线的恒流区中做横轴的垂线,读出垂线与各曲线交点的坐标值,建立 u G S {\large u}{\tiny GS} uGS i D {i}{\tiny D} iD坐标系,连接各点所得曲线就是转移特性曲线,见下图所示。可见转移特性曲线有严格的对应关系。
场效应管的转移特性曲线

  根据半导体物理中对场效应管内部载流子的分析可以得到恒流区中 i D {i}{\tiny D} iD的近似表达式为
i D = I D S S ( 1 − u G S U G S ( o f f ) ) 2 ( U G S ( o f f ) < u G S < 0 ) {i}{\tiny D}={I\tiny DSS}{(1-\frac {{\large u}{\tiny GS}}{U\tiny GS(off)})}^2({U\tiny GS(off)}<{{\large u}\tiny GS}<0) iD=IDSS(1UGS(off)uGS)2(UGS(off)uGS0)
  式中 I D S S {I\tiny DSS} IDSS u G S = 0 {{\large u}\tiny GS}=0 uGS=0情况下产生预夹断时的 I D {I}{\tiny D} ID,称为饱和漏极电流。
  当管子工作在可变电阻区时,对于不同的 U D S {U}{\tiny DS} UDS,转移特性曲线将有很大差别。
  应当指出,为保证结型场效应管栅-源间的耗尽层加反向电压,对于N沟道管, u G S ≤ 0 V {{\large u}\tiny GS}≤0V uGS0V;对于P沟道管, u G S ≥ 0 V {{\large u}\tiny GS}≥0V uGS0V

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