你要让价带产生电流,就必须要产生电子的空位

小的Eg带来的影响:导带上会有少量电子,价带会有部分空穴,所以此时性质介于导体与绝缘体之间

我们怎么调控半导体里面载流子的种类和它的浓度?

学会怎么计算载流子的数量?告诉你费米能级在哪里,就可以知道载流子的浓度

画某一个能级图,并进行解释 我们对于定量化的要求不是很多,但是并不是没有

费米能级就是边界,电子慢慢填充到这个位置

随着E_f上移,电子数量变多,空穴数量变小

注意看占据几率,占据概率越大,意味着电子的空位数量越小,空穴数量越小

 掺杂就是调控费米能级的位置

首先Energy band  

第二幅图,是N-type 横坐标是density state座位的数量

第三幅图是费米狄拉克分布

第四幅图 电子的密度和空穴的密度

N_vN_c非常靠近,的时候最后一项可以忽略不记,所以费米能级就在价带的中间

我们从材料的角度来说,怎么看电子和空穴守恒?

电子是激发上去的,所以电子和空穴必然守恒

费米能级在中间,能量差是相等的,因为是本征硅,所以N_vN_c非常靠近

pn=N_cN_vexp(\frac{E_k}{kT}))=n_i^2,相加费米能级就抵消掉了,就变成Eg


Doping in Semiconductors

 从能带图里面怎么理解?(Intrinsic 本征  P这个杂质我们叫做donor acceptor 叫做受主 )

N-doping 这个P最外层有五个电子,相当于有四个共价键形成,会有一个电子多出来,这个电子就会很容易跑到硅里面,变成一个delocalized 离域的一个电子,就跑到硅的晶格里面了

state 是座位, electron 是有人的

1. 杂质会引入Donor states  1) 特点非常靠近导带,2)初始状态下有电子,这个电子很容易跃迁到导带,变成离域的电子,然后就留下了带一个正电的正离子实

P-doping 会造成B少一个电子无法手牵手,会多一个空位,所以这个空位是可以接收电子的,然后就可以变成一个delocalized hole ,这个地方就会变成带一个负电的B离子实

这个B在掺杂之后,在Si价带的上方,引入了空的电子态(初始情况下是空的),价带上的电子很容易激发到空的电子态上,相当于把空的电子态填掉了,这时候价带上就会产生一个空位

为什么导带价带是长线,杂质能级是虚线?

因为数量没有价带,是局域的(不能自由移动),这个叫做delocalized band

画短线说明是稀疏的

可以改变carriers的浓度,从而改变导电能力


 N型和本征有什么不一样?

1.费米能级是变化的,本征的是在中间,N型掺杂是往上移的

2.导带上的电子变多了

物理过程是电子不停的随机有电子激发上去,空穴和电子是一个动态平衡,所以激发的几率和复合的几率相等,达到一个稳态,电子多了,动态平衡被打破了,复合的几率要达到一个新的稳态,

导带上的电子数量变多了,价带上的空穴数量变少了,pn=n_i^2(带隙是本身的属性,费米能级跟掺杂有关系)

施主能级:donor state 所处的能量位置就是E_D,掺杂的越多E_D就越高

N型半导体 Majority carieers 就是多子,多子就是电子,少子就是空穴

P型半导体 刚好相反

对于N型半导体来说,导电性主要取决于电子,空穴可以忽略不计

 这个里面很关键的是N-type和P-type究竟有什么不同?

Donor state 原来就有电子,Accecptor state 原来是没有电子的

10^{15}次方代表着杂质能级上的电子全部跃迁上去了,再后来由于温度太高,就变成类似本征激发了,左边一段的K=E_g,在这个图里面,比较偏重线性(纵坐标是指数,横坐标是线性坐标,所以代表函数关系是一个指数关系)

 为什么温度占主导?

因为温度激发的电子远远大于10^{15}

为什么可以激发超过10^{15}

激发上去的概率变得非常大,远远超过杂质浓度,所以接近本征半导体的性质


作业:

 electron trapping states 陷阱的捕获态

比如说我导带上有一个电子,可以自由移动,比如说我这边有一个坑,电子掉进去了,怎么样的电子态才可以变成 trapping state? 自己调研

1. 画能级图来解释 2. 主要讲他们之间的区别是什么

处在什么能级?是连续还是不连续?


在常温下电子即使没有定向移动,也会随机杂乱无章的到处运动(只要温度不是0k

Switch speed 就与载流子运动的快慢有关系

Response speed 响应速度也与载流子的快慢有关系

电流的调制也和我们载流子的速度有关系

首先我们刚才讲的有两种电流

漂移运动 v_d=\mu E  单位电场下载流子的平均漂移速度 (\mu 漂移率)

Lattice Scattering 晶格散射,电子会与晶格的格点发生碰撞,碰撞的过程,会被弹开,称作散射

散射在物理本质上就会决定他的迁移率,这个针对的是无机的单晶(有很好的能带结构),如果是非晶的话,不能用离域的能带来描述的固体,那么就不受散射的限制\mu = \frac{q\gamma _m}{m^*}

迁移率 却决于mean free time\gamma _m 平均自由时间,在没有碰撞的时候,会被定向加速,但是加速到一定程度就又会碰到下一个,指的是两次散射的间隔时间,如果自由时间越长,电流就越大

也就是说,散射越少,迁移率就越高

迁移率的量纲 (米的平方 /(伏·秒))

 

Logo

开放原子开发者工作坊旨在鼓励更多人参与开源活动,与志同道合的开发者们相互交流开发经验、分享开发心得、获取前沿技术趋势。工作坊有多种形式的开发者活动,如meetup、训练营等,主打技术交流,干货满满,真诚地邀请各位开发者共同参与!

更多推荐